Advances in chemical mechanical planarization (CMP)

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteur principal: Babu, Suryadevara V.. (Auteur)
Support: E-Book
Langue: Anglais
Publié: San Diego : Elsevier Science, 2016.
Autres localisations: Voir dans le Sudoc
Accès en ligne: Accès à l'E-book
LEADER 01691cmm a2200469 i 4500
001 ebook-195534204
005 20220110183232.0
007 cr|cuu---auauu
008 161005s2016||||us ||||g|||d ||||||eng d
020 |a 9780081002186 
035 |a (OCoLC)956350357 
035 |a FRCYB88832090 
035 |a FRCYB07488832090 
035 |a FRCYB08288832090 
035 |a FRCYB14088832090 
035 |a FRCYB24288832090 
035 |a FRCYB26088832090 
035 |a FRCYB26888832090 
035 |a FRCYB29388832090 
035 |a FRCYB29588832090 
035 |a FRCYB54288832090 
035 |a FRCYB55488832090 
035 |a FRCYB55988832090 
040 |a ABES  |b fre  |e AFNOR 
041 0 |a eng  |2 639-2 
100 1 |0 (IdRef)069063451  |1 http://www.idref.fr/069063451/id  |a Babu, Suryadevara V..  |4 aut.  |e Auteur 
245 1 0 |a Advances in chemical mechanical planarization (CMP)   |c Suryadevara Babu. 
256 |a Données textuelles. 
260 |a San Diego :  |b Elsevier Science,  |c 2016. 
336 |b txt  |2 rdacontent 
337 |b c  |2 rdamedia 
337 |b b  |2 isbdmedia 
338 |b ceb  |2 RDAfrCarrier 
500 |a Titre provenant de la page de titre du document numérique. 
500 |a La pagination de l'édition imprimée correspondante est de 538 p. 
506 |a L'accès complet à la ressource est réservé aux usagers des établissements qui en ont fait l'acquisition 
538 |a Configuration requise : navigateur internet. 
856 |q HTML  |u https://srvext.uco.fr/login?url=https://univ.scholarvox.com/book/88832090  |w Données éditeur  |z Accès à l'E-book 
886 2 |2 unimarc  |a 181  |a i#  |b xxxe## 
993 |a E-Book  
994 |a BNUM 
995 |a 195534204